Redação do IDGNow
O processo de fabricação em 45 nanômetros (o tamanho médio do transistor dá o nome ao processo produtivo de cada nova geração de chips) garantirá um ganho em velocidade – neste caso, o mesmo chip ficará 20% mais rápido. Isso ocorre porque com transistores menores, o caminho percorrido pelos elétrons dentro do chip é menor, por isso a velocidade aumenta.

O avanço da Intel para os 45 nanômetros implicou em mais que um simples salto de miniaturização. Para acompanhar a lei do Moore e revolucionar mais uma vez a produção no prazo esperado, a companhia teve que mudar parte do material usado na produção dos gates dos chips, adotando uma combinação de háfnio com um material identificado como “high-κ”.

Além de ampliar a capacidade de miniaturização, este composto permite, segundo Saraiva, aumentar o isolamento elétrico, diminuindo a liberação de energia e o aquecimento do chip. O uso do novo material permitirá um ganho de 30% em eficiência de energia na geração de processadores de 45 nanômetros da Intel.
A cada mudança no processo de produção, os fabricantes têm um ganho de escala, podendo produzir mais chips em um mesmo wafer – bolacha achatada de silício onde são moldados os processadores. A fabricação em 45 nanômetros, por exemplo, vai garantir um aproveitamento 40% maior do mesmo wafer.



Uma das preocupações durante as pesquisas é garantir que as mudanças na produção possam ser absorvidas pelas atuais linhas de produção, preservando os investimentos nos parques industriais existentes. A Intel têm fábricas de 65, 90, 130, 180, 250 e 350 nanômetros, em locais como Arizona, Califórnia, Colorado, Oregon, Massachusetts, Novo México, Irlanda, e Israel.



A Intel planeja iniciar a fabricação em 45 nanômetros no próximo semestre. Para isso, a empresa vai adaptar uma planta que possui no Oregon e construir uma nova fábrica no Arizona (foto) para produzir em 45 nanômetros. Além disso, vai inaugurar uma nova fábrica em Israel para fabricar no processo ainda no primeiro semestre de 2008.



fonte IdgNow